Laatste nieuws in EUV-technologie

China's Vooruitgang Challengeert ASML in EUV Race

China's Vooruitgang Challengeert ASML in EUV Race

Veldhoven, dinsdag, 29 april 2025.
Chinese onderzoekers hebben onder leiding van ex-ASML-wetenschapper Lin Nan een baanbrekende EUV-lichtbron ontwikkeld die ASML’s marktpositie bedreigt. Dit kan de wereldwijde halfgeleidermarkt ingrijpend veranderen.